1Cr13Al4 FeCrAl ərintisi Rezistorların İstifadəsi üçün Parlaq Düz Zolaq/Geniş Zolaq

Nikel-xrom ərintiləri nazik təbəqəli rezistorlar üçün geniş istifadə olunan yüksək elektrik müqavimətinə malik olduğundan, Fecral ərintiləri və Nikel-xrom ərintiləri daxili rezistorlar üçün müqavimət materialı kimi seçilmişdir [1, 2]. 20% xrom tərkibli nikel-xrom ərinti filminin təbəqə müqaviməti 2-3 kilo ohm-a qədər ola bilər və yenə də yaxşı sabitliyi qoruyur. Toplu nikel-xrom ərintisi üçün müqavimətin temperatur əmsalı 1 (TCR) təxminən 110 ppm/°C-dir. Az miqdarda silikon və alüminiumun nikel-xromla ərintiləşdirilməsi ilə temperatur sabitliyi daha da artır.

Tətbiq:

Çap olunmuş naqil lövhəsinə yerləşdirilmiş rezistorlar daha yüksək etibarlılığa və təkmilləşdirilmiş elektrik performansına malik paketləri miniatürləşdirmək üçün imkan yaradacaq. Rezistor funksionallığının laminat substrata inteqrasiyası diskret komponentlər tərəfindən istehlak edilən PWB səth sahəsini azad edir və daha aktiv komponentlərin yerləşdirilməsi ilə cihaz funksionallığının artırılmasına imkan yaradır. Nikel-xrom ərintiləri yüksək elektrik müqavimətinə malikdir ki, bu da onları müxtəlif tətbiqlərdə istifadə üçün praktik edir. Temperatur sabitliyini artırmaq və müqavimətin istilik əmsalını aşağı salmaq üçün nikel və xrom silikon və alüminiumla ərintilənir. Yerləşdirilmiş rezistor tətbiqləri üçün material yaratmaq məqsədilə nikel-xrom ərintilərinə əsaslanan nazik təbəqəli rezistiv təbəqə mis folqa rulonlarına davamlı olaraq yerləşdirilib. Mis və laminat arasında yerləşən nazik təbəqəli rezistiv təbəqə diskret rezistorlar yaratmaq üçün selektiv şəkildə aşındırıla bilər. Aşındırma üçün kimyəvi maddələr PWB istehsal proseslərində geniş yayılmışdır. Ərintilərin qalınlığını idarə etməklə, 25-dən 250 ohm/kv.-dək təbəqə müqavimət dəyərləri əldə edilir. Bu məqalədə iki nikel-xrom materialının aşındırma metodologiyaları, vahidliyi, güc idarəetməsi, istilik performansı, yapışması və aşındırma qətnaməsi müqayisə ediləcək.